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美國(guó) KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用2023-04-13

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美國(guó) KRi 離子源常見(jiàn)工藝應(yīng)用2023-04-13

KRi 射頻離子源 RFICP 100 應(yīng)用于國(guó)產(chǎn)離子束濺射鍍膜機(jī) IBSD2023-04-06

KRI 離子源應(yīng)用于有機(jī)材料熱蒸鍍?cè)O(shè)備 OLED, OPV2023-04-06

KRI 離子源應(yīng)用于超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備2023-04-06

KRI 離子源應(yīng)用于超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備2023-04-06

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KRI 離子源應(yīng)用于磁控共濺鍍?cè)O(shè)備 Co-sputter2023-04-06

KRI 離子源應(yīng)用于電子束蒸鍍?cè)O(shè)備2023-04-06

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伯東 KRI 霍爾離子源 EH 4200輔助鍍膜 IBAD用于 PC 預(yù)清潔2023-03-30

KRI 霍爾離子源 EH 3000 HC用于輔助天文望遠(yuǎn)鏡鏡片鍍膜2023-03-30

伯東 KRI 霍爾離子源 EH400 HC用于離子刻蝕 IBE2023-03-30

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伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 應(yīng)用于離子刻蝕 IBE2023-03-30

KRI 離子源廣泛用于鍍膜, 半導(dǎo)體, 航天等各個(gè)領(lǐng)域, 推進(jìn)關(guān)鍵領(lǐng)域科技與科學(xué)2023-03-30

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