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KRI 聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜

價格:面議瀏覽:181次聯(lián)系:張婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企業(yè):伯東貿(mào)易(深圳)有限公司留言店鋪收藏

國內(nèi)某制造商在鈦合金表面制備一層類金剛石薄膜 DLC, 以期改善鈦合金表面摩擦學(xué)性能, 為了獲得均勻且致密的類金剛石薄膜, 采用伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 制備類金剛石薄膜.

伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):

射頻離子源型號

RFICP 380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推薦理由:

使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380可以準(zhǔn)確、靈活地對樣品選定的區(qū)域進(jìn)行沉積和刻蝕.

 

運行結(jié)果:

1. 沉積的類金剛石薄膜厚度約為 1.0 μm, 薄膜均勻且致密, 表面粗糙度Ra為13.23nm

2. 類金剛石薄膜與基體結(jié)合力的臨界載荷達(dá)到31.0N

3. DLC薄膜具有良好的減摩性, 摩擦系數(shù)為0.15, 耐磨性能得到提高

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

 

 

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: 86-21-5046-1322                   T: 886-3-567-9508 ext 161
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