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美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 10

價格:面議瀏覽:265次聯(lián)系:張婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企業(yè):伯東貿(mào)易(深圳)有限公司留言店鋪收藏

KRI 考夫曼離子源 KDC 10產(chǎn)品描述

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 10, 寬束離子源,最小型號的離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應用.

離子束流: >10 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical flow): 1-5 sccm.

加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強設計輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.

離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.

無需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設計.

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 10 技術參數(shù):

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 技術參數(shù):

 離子源型號

 離子源 KDC 10 

Discharge

DC 熱離子

離子束流

>10 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

1 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

1-5 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

11.5 cm

直徑

4 cm

中和器

燈絲

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應用領域:

伯東KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應用領域:

1. 離子清洗, 顯微鏡拋光 IBP

2. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

3. 輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD

4. 表面改性, 激活 SM

5. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

6. 離子蝕刻 IBE

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