產(chǎn)品描述

上海伯東代理美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 100, 屬于中型規(guī)格柵極離子源. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.

離子束流: >400 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 燈絲.

采用雙陰極燈絲和自對(duì)準(zhǔn)柵極.加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.

離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.

通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.

KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術(shù)參數(shù)：

伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術(shù)參數(shù)：

離子源型號(hào)	離子源 KDC 100
Discharge	DC 熱離子
離子束流	>400 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V
柵極直徑	12 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	2-20 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長(zhǎng)度	23.5 cm
直徑	19.4 cm
中和器	燈絲

* 可選: 可調(diào)角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 100 應(yīng)用領(lǐng)域：

伯東KRI 考夫曼離子源 KDC 100 應(yīng)用領(lǐng)域：

1.濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

2.輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD

3.表面改性, 激活 SM

4.離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

5.離子蝕刻 IBE